Stencils

Geëtste stencils maken precieze openingen, zuivere randen en stabiele drukprocessen mogelijk.

Mikrostruktur auf Leiterplatte, Nahaufnahme, Elektronik-Fertigung und SMT-Anwendung

Geëtste stencils

  • Braamvrij, geen scherpe randen
  • Opening met afgeronde hoeken
  • We kunnen op hetzelfde stencil verschillende diktes etsen, ook aan beide zijden.
  • Spanningsvermindering – vergemakkelijkt de montage en verlengt de levensduur van stencils en spanramen aanzienlijk.

Step-stencils

– Veilige en stofvrije opslag
– Transparante stencilmap
– Gemakkelijk te identificeren
– Eenvoudige bediening
– Grote opslagcapaciteit
– Optimale archivering en geringe ruimtebehoefte
– Uitstekende prijs-kwaliteitverhouding

Fotochemisch etsproces voor precisie metalen onderdelen

Bij fotochemisch etsen wordt metaal gestructureerd door een precies lithografie- en etsproces.

De fijnste contouren ontstaan direct uit dun metaalplaat. Het proces maakt complexe geometrieën mogelijk, zonder het materiaal mechanisch te belasten.

Het resultaat zijn spannings- en braamvrije componenten met een zeer hoge maatnauwkeurigheid.

Ons etsproces biedt vrijwel onbeperkte ontwerpvrijheid.

Door foto-etsen kunnen diverse structuren worden gerealiseerd – bijvoorbeeld:

• Gefilterde structuren
• Doorzichtige structuren
• Scherpe en gladde randen
• Gekanaliseerde geometrieën

Met de speciaal ontwikkelde maskeertechnologie kan de etsvoortgang ook in de derde dimensie worden gestuurd.

Zo ontstaan gedefinieerde doorbraakgeometrieën en complexe componenten – bijvoorbeeld voor lancetten, scalpels of messen op grote schaal.

Fotochemisch etsen maakt de hoogste precisie mogelijk bij een gelijktijdig hoge productiecapaciteit.

Typische kenmerken van de technologie:

• Krapste toleranties in het honderdste millimeterbereik
• Fijnste structuren en dunste metalen
• Hoge reproduceerbaarheid van de resultaten
• Industriële massaproductie mogelijk

De combinatie van precieze lithografie en industriële productietechnologie zorgt voor stabiele processen en economische productie.

Bij reel-to-reel-etsen worden metalen onderdelen continu in een eindloze band geproduceerd.

De componenten worden vervolgens geleverd als op spoelen gewikkelde metaalstrips en kunnen geautomatiseerd verder worden verwerkt.

Typische eigenschappen:

• Metaalbanddiktes van ongeveer 25 µm tot 400 µm
• Eenvoudige integratie in geautomatiseerde productieprocessen
• Gedefinieerde markeringen of coderingen mogelijk

De componenten kunnen bij de klant worden gescheiden of direct naar de volgende processtap worden geleid.

Bij fotochemisch etsen kunnen verschillende metalen en legeringen worden verwerkt.

Standaardmaterialen:

• Roestvrij staal
• Koper
• Nikkel
• En hun legeringen

Overige materialen (afhankelijk van de locatie):

• Aluminium
• Titanium
• Molybdeen
• Edelmetalen zoals goud of zilver

Typische procesparameters:

• Materiaaldikte: ongeveer 0,003 mm tot 1,5 mm
• Minimale toleranties: tot ± 0,007 mm
• Minimale brugbreedte: ongeveer 0,5 × materiaaldikte

De waarden zijn richtwaarden en kunnen per toepassing variëren.

Onze standaarden zijn toonaangevend

Samen
naar de passende oplossing

Contact opnemen met experts

Productportfolio

Micro Component

Contacten, pinnen, connectoren Veringen Sjablonen (Stencils) Diffusoren EMC-afschermingen Complexe schijven / ringen

Uw contact met ons

+49 (0) 7631 93688-0

info@micrometal.de

    Bestanden hierheen slepen en neerzetten
    PDF tot 8 MB