Filters, zeven en sleufstroken etsen

Filters, zeven en ponsbanden zijn nodig in tal van industriële sectoren die complexiteit en het bereiken van extreme precisieparameters vereisen.

Metallbänder in einem Produktionsprozess, die über Walzen geführt werden, Aufnahme in Nahaufnahme mit Fokus auf glänzende Oberflächen.

Vrije structureringsmogelijkheden voor

zeven, filters en metalen ponsbanden

Uw voordelen
in één oogopslag

Fotochemisch etsproces 
voor precisie metalen onderdelen

Bij fotochemisch etsen wordt metaal gestructureerd door middel van een nauwkeurig lithografie- en etsproces.

De fijnste contouren ontstaan direct uit dunne metaalplaat. Het proces maakt complexe geometrieën mogelijk, zonder het materiaal mechanisch te belasten.

Het resultaat zijn spannings- en braamvrije componenten met een zeer hoge maatnauwkeurigheid.

Ons etsproces biedt vrijwel grenzeloze ontwerpvrijheid.

Door foto-etsen kunnen diverse structuren worden gerealiseerd – bijvoorbeeld:

• Gefilterde structuren
• Doorzichtige structuren
• Scherpe en gladde randen
• Gekanaliseerde geometrieën

Met de speciaal ontwikkelde maskeertechnologie kan de etsvoortgang ook in de derde dimensie worden gestuurd.

Zo ontstaan gedefinieerde doorbraakgeometrieën en complexe componenten – bijvoorbeeld voor lancetten, scalpelmesjes of bladen op grote schaal.

Fotochemisch etsen maakt de hoogste precisie mogelijk bij een tegelijkertijd hoge productiecapaciteit.

Typische kenmerken van de technologie:

• Krapste toleranties in het honderdste millimeterbereik
• Fijnste structuren en dunste metalen
• Hoge reproduceerbaarheid van de resultaten
• Industriële massaproductie mogelijk

De combinatie van precieze lithografie en industriële productietechnologie zorgt voor stabiele processen en economische productie.

Bij reel-to-reel-etsen worden metalen onderdelen continu in een eindloze band geproduceerd.

De componenten liggen vervolgens als op spoelen gewikkelde metaalstrips voor en kunnen geautomatiseerd verder worden verwerkt.

Typische eigenschappen:

• Metaalbanddiktes van ongeveer 25 µm tot 400 µm
• Eenvoudige integratie in geautomatiseerde productieprocessen
• Gedefinieerde markeringen of coderingen mogelijk

De componenten kunnen bij de klant worden gescheiden of direct aan de volgende processtap worden toegevoegd.

Bij fotochemisch etsen kunnen verschillende metalen en legeringen worden verwerkt.

Standaardmaterialen:

• Roestvrij staal
• Koper
• Nikkel
• En hun legeringen

Overige materialen (afhankelijk van de locatie):

• Aluminium
• Titanium
• Molybdeen
• Edelmetalen zoals goud of zilver

Typische procesparameters:

• Materiaaldikte: ongeveer 0,003 mm tot 1,5 mm
• Minimale toleranties: tot ± 0,007 mm
• Minimale brugbreedte: ongeveer 0,5 × materiaaldikte

De waarden zijn richtwaarden en kunnen variëren afhankelijk van de toepassing.

Onze standaarden
 zijn toonaangevend

Samen
naar de passende oplossing

Contact opnemen met experts

Productportfolio

Micro Component

Contacten, pinnen, connectoren Veringen Sjablonen (Stencils) Diffusoren EMC-afschermingen Complexe schijven / ringen

Uw contact met ons

+49 (0) 7631 93688-0

info@micrometal.de